HMDS烘箱結構，HMDS涂布機原理

HMDS，即六甲基二硅胺，是半導體光刻工藝中一種常見的耗材。HMDS是一種易揮發(fā)的化學品，傳送到工藝腔的HMDS是以氣態(tài)形式存在的，其均勻附著在晶圓表面，形成HMDS膜層。

HMDS烘箱結構，HMDS涂布機原理

現(xiàn)有技術中，涂布過程一般先在氮氣的保護下對晶圓進行加熱，同時通入HMDS進行涂布，但由于前期氮氣的通入，為了保證HMDS的濃度及擴散效果，必須增加HMDS的通入量，才能使其濃度達到一定范圍，這樣勢必造成HMDS的浪費，且HMDS為有害氣體，過高濃度的排放會對環(huán)境造成嚴重破壞。

HMDS烘箱，HMDS涂布機技術參數(shù)